ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ МИКРОСТРУКТУР С ВЫСОКИМ ФОРМАТНЫМ ОТНОШЕНИЕМ ПРИ ФОТООТВЕРЖДЕНИИ ПОЛИМЕРА

N. . Vorzobova, V. . Bulgakova, J. E. Burunkova


Read the full article 

Abstract

Приведены результаты исследований процесса формирования микроструктур в УФ-отверждаемых нанокомпозиционных материалах методом глубокой литографии (deep lithography). Исследован эффект расширения области фотополимаризации за пределы точки экспонирования при уменьшении относительного расстояния между формируемыми элементами.


Copyright 2001-2017 ©
Scientific and Technical Journal
of Information Technologies, Mechanics and Optics.
All rights reserved.

Яндекс.Метрика