ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ МИКРОСТРУКТУР С ВЫСОКИМ ФОРМАТНЫМ ОТНОШЕНИЕМ ПРИ ФОТООТВЕРЖДЕНИИ ПОЛИМЕРА

N. . Vorzobova, V. . Bulgakova, J. E. Burunkova


Read the full article 

Abstract

Приведены результаты исследований процесса формирования микроструктур в УФ-отверждаемых нанокомпозиционных материалах методом глубокой литографии (deep lithography). Исследован эффект расширения области фотополимаризации за пределы точки экспонирования при уменьшении относительного расстояния между формируемыми элементами.




Creative Commons License

This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License
Copyright 2001-2018 ©
Scientific and Technical Journal
of Information Technologies, Mechanics and Optics.
All rights reserved.

Яндекс.Метрика