ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ МИКРОСТРУКТУР С ВЫСОКИМ ФОРМАТНЫМ ОТНОШЕНИЕМ ПРИ ФОТООТВЕРЖДЕНИИ ПОЛИМЕРА

Nadezda Vorzobova, Vera Bulgakova, Burunkova Julia E

2008 , VOLUME 08, NUMBER 7 ( April )

ISSN 2226-1494 (print), ISSN 2500-0373 (online)

Publications

Editor-in-Chief

Nikiforov
Vladimir O.
D.Sc., Prof.

Partners

ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ МИКРОСТРУКТУР С ВЫСОКИМ ФОРМАТНЫМ ОТНОШЕНИЕМ ПРИ ФОТООТВЕРЖДЕНИИ ПОЛИМЕРА

N. Vorzobova, V. Bulgakova, J. E. Burunkova

Read the full article

Abstract

Приведены результаты исследований процесса формирования микроструктур в УФ-отверждаемых нанокомпозиционных материалах методом глубокой литографии (deep lithography). Исследован эффект расширения области фотополимаризации за пределы точки экспонирования при уменьшении относительного расстояния между формируемыми элементами.

This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License