ОСОБЕННОСТИ КОНТРОЛЯ ОБЪЕКТИВА ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОСТРУКТУР

V. K. Kirillovsky, I. . Bogdanov, Y. . Gavrilov


Read the full article 

Abstract

Для обеспечения прогресса развития микроэлектроники и достижения минимального размера элемента микросхемы на уровне 10 нм необходимо разрабатывать средства контроля повышенной точности. Показано, что основной задачей, решение которой необходимо для обеспечения производства элементов проекционных объективов,  является создание средств контроля,  обеспечивающих корреляцию между контрольной и рабочей длиной волны в глубоком вакуумно-ультрафиолетовым диапазоне. Описан интерферометр для исследования волновых аберраций с дифракционной волной сравнения.


Copyright 2001-2017 ©
Scientific and Technical Journal
of Information Technologies, Mechanics and Optics.
All rights reserved.

Яндекс.Метрика