УДК535.317.2

ОСОБЕННОСТИ КОНТРОЛЯ ОБЪЕКТИВА ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОСТРУКТУР

Кирилловский В. К., Гаврилов Е. В., Богданов И. Ю.



Аннотация

Для развития микроэлектроники и достижения минимального размера элемента микросхемы на уровне 10 нм необходимо разрабатывать средства контроля повышенной точности. Показано, что основной задачей, решение которой необходимо для обеспечения производства элементов проекционных объективов, является создание средств контроля, обеспечивающих корреляцию между контрольной и рабочей длинами волн в глубоком вакуумно-ультрафиолетовым диапазоне. Описан интерферометр для исследования волновых аберраций с дифракционной волной сравнения.


Ключевые слова:

EUV, объектив Шварцшильда, PDI – интерферометр

Информация 2001-2017 ©
Научно-технический вестник информационных технологий, механики и оптики.
Все права защищены.

Яндекс.Метрика