ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ МИКРОСТРУКТУР С ВЫСОКИМ ФОРМАТНЫМ ОТНОШЕНИЕМ ПРИ ФОТООТВЕРЖДЕНИИ ПОЛИМЕРА

Ворзобова Н. Д., Булгакова В. Г., Бурункова Ю. Э.



Аннотация

Приведены результаты исследований процесса формирования микроструктур в УФ-отверждаемых нанокомпозиционных материалах методом глубокой литографии (deep lithography). Исследован эффект расширения области фотополимаризации за пределы точки экспонирования при уменьшении относительного расстояния между формируемыми элементами.




Creative Commons License

This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License
Информация 2001-2019 ©
Научно-технический вестник информационных технологий, механики и оптики.
Все права защищены.

Яндекс.Метрика