Меню
Публикации
2024
2023
2022
2021
2020
2019
2018
2017
2016
2015
2014
2013
2012
2011
2010
2009
2008
2007
2006
2005
2004
2003
2002
2001
Главный редактор
НИКИФОРОВ
Владимир Олегович
д.т.н., профессор
Партнеры
doi: 10.17586/2226-1494-2021-21-5-664-669
УДК 539.211, 537.533
Дрейф двумерных вакансионных островков на поверхности Si(100) в условиях электромиграции
Читать статью полностью
Язык статьи - русский
Ссылка для цитирования:
Аннотация
Ссылка для цитирования:
Воронцова Ю.А., Ситников С.В. Дрейф двумерных вакансионных островков на поверхности Si(100) в условиях электромиграции // Научно-технический вестник информационных технологий, механики и оптики. 2021. Т. 21, № 5. С. 664–669. doi: 10.17586/2226-1494-2021-21-5-664-669
Аннотация
Предмет исследования. С применением in situ метода сверхвысоковакуумной отражательной электронной микроскопии выполнено экспериментальное исследование морфологических изменений поверхности Si(100) в условиях электромиграции. Целью исследования является определение температурной зависимости эффективного электрического заряда адсорбированного атома на поверхности Si(100). Метод. С помощью бомбардировки низкоэнергетическими ионами аргона и последующего высокотемпературного отжига на поверхности образцов Si(100) сформирована система концентрических двумерных вакансионных островков. На поверхности образцов созданы квазиравновесные условия путем компенсации сублимирующего потока с поверхности из внешнего источника кремния. В условиях электромиграции при компенсации сублимации выполнена запись видеоизображений дрейфа вакансионных островков. Основные результаты. В результате обработки и анализа видеоизображений получена зависимость скорости движения вакансионных островков на поверхности Si(100) для различных температур и направлений электрического тока вдоль и поперек димерных рядов сверхструктуры (2 × 1) внутри островка. Показано, что в квазиравновесных условиях скорость дрейфа вакансионных островков не зависит от их размеров. Построена упрощенная одномерная теоретическая модель, которая включает в себя одну атомную ступень. Ступень движется посредством отрыва от нее атомов и их дрейфа под силой электромиграции в условиях отсутствия десорбции и осаждения атомов на поверхность. На основе предложенной модели дана оценка эффективного электрического заряда, и построена температурная зависимость величины эффективного заряда в интервале температур 1010–1120 °С. Абсолютная величина эффективного заряда линейно уменьшается с увеличением температуры. Знак эффективного заряда отрицательный, а его средняя величина составляет Z = –0,5 ± 0,3 элементарных зарядов. Практическая значимость. Полученные результаты могут быть востребованы при создании структур со счетным количеством атомных ступеней для использования в качестве вторичных мер высоты с привязкой к кристаллической решетке кремния.
Ключевые слова: поверхность кремния, электромиграция, эффективный заряд, сверхвысоковакуумная отражательная электронная микроскопия
Благодарности. Работа выполнена на оборудовании Центра коллективного пользования «Наноструктуры» при финансовой поддержке Российского научного фонда (грант № 19-72-30023).
Список литературы
Благодарности. Работа выполнена на оборудовании Центра коллективного пользования «Наноструктуры» при финансовой поддержке Российского научного фонда (грант № 19-72-30023).
Список литературы
1. Yasunaga H., Natori A. Electromigration on semiconductor surfaces // Surface Science Reports. 1992. V. 15. N 6-7. P. 205–280. https://doi.org/10.1016/0167-5729(92)90007-x
2. Тамм И.Е. О возможности связанных состояний электронов на поверхности кристалла // Журнал экспериментальной и теоретической физики. 1933. Т. 3. С. 34–43.
3. Rogilo D.I., Fedina L.I., Kosolobov S.S., Latyshev A.V. On the role of mobile nanoclusters in 2D island nucleation on Si(111)-(7 × 7) surface // Surface Science. 2018. V. 667. P. 1–7. https://doi.org/10.1016/j.susc.2017.09.009
4. Brocks G., Kelly P.J., Car R. Binding and diffusion of a Si adatom on the Si(100) surface // Physical Review Letters. 1991. V. 66. N 13. P. 1729–1732. https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.66.1729
5. Latyshev A.V., Krasilnikov A.B., Aseev A.L. Application of ultrahigh vacuum reflection electron microscopy for the study of clean silicon surfaces in sublimation, epitaxy, and phase transitions // Microscopy Research and Technique. 1992. V. 20. N 4. P. 341–351. https://doi.org/10.1002/jemt.1070200405
6. Rogilo D.I., Fedina L.I., Kosolobov S.S., Ranguelov B.S., Latyshev A.V. Critical terrace width for two-dimensional nucleation during Si growth on Si(111)-(7х7) surface // Physical Review Letters. 2013. V. 111. N 3. P. 036105. https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.111.036105
7. Curiotto S., Müller P., El-Barraj A., Cheynis F., Pierre-Louis O., Leroy F. 2D nanostructure motion on anisotropic surfaces controlled by electromigration // Applied Surface Science. 2019. V. 469. P. 463–470. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2018.11.049
8. Curiotto S., Cheynis F., Müller P., Leroy F. 2D manipulation of nanoobjects by perpendicular electric fields: Implications for nanofabrication // ACS Applied Nano Materials. 2020. V. 3. N 2. P. 1118–1122. https://doi.org/10.1021/acsanm.9b02517
9. Myers-Beaghton A.K., Vvedensky D.D. Generalized Burton-Cabrera-Frank theory for growth and equilibration on stepped surfaces // Physical Review A. 1991. V. 44. N 4. P. 2457–2468. https://doi.org/10.1103/PhysRevA.44.2457
10. McLean J.G., Krishnamachari B., Peale D.R., Chason E., Sethna J.P., Cooper B.H. Decay of isolated surface features driven by the Gibbs-Thomson effect in an analytic model and a simulation // Physical Review B. 1997. V. 55. N 3. P. 1811–1823. https://doi.org/10.1103/PhysRevB.55.1811
11. Kandel D., Kaxiras E. Microscopic theory of electromigration on semiconductor surfaces // Physical Review Letters. 1996. V. 76. N 7. P. 1114–1117. https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.76.1114
12. Stoyanov S. Electromigration induced step bunching on si surfaces-how does it depend on the temperature and heating current direction? // Japanese Journal of Applied Physics. 1991. V. 30. N 1. P. 1–6. https://doi.org/10.1143/JJAP.30.1
13. Латышев А.В. Атомные процессы на поверхности кристалла: учеб. пособие / Новосибирский государственный университет. Новосибирск, 2006. 96 с.
14. Nielsen J.-F., Pelz J.P., Hibino H., Hu C.-W., Tsong I.S.T. Enhanced terrace stability for preparation of step-free Si(001)-( 2×1) surfaces // Physical Review Letters. 2001. V. 87. N 13. P. 136103. https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.87.136103
15. Minoda H. Study of an effective charge of si adatoms on a Si(111) 1 × 1 surface // Journal of the Physical Society of Japan. 2002. V. 71. N 12. P. 2944–2947. https://doi.org/10.1143/JPSJ.71.2944