ИССЛЕДОВАНИЕ ВОЗДЕЙСТВИЯ УФ ИЗЛУЧЕНИЯ НА ПОВЕРХНОСТЬ ТОНКИХ ПЛЕНОК

Гавриш Екатерина Олеговна, Чуйко Владимир Анатольевич

2010 , ТОМ 10, НОМЕР 5 ( СЕНТЯБРЬ-ОКТЯБРЬ )

ISSN 2226-1494 (print), ISSN 2500-0373 (online)

Меню

Публикации

Главный редактор

НИКИФОРОВ
Владимир Олегович
д.т.н., профессор

Партнеры

УДК 535.3; 535.4; 535.012.21

ИССЛЕДОВАНИЕ ВОЗДЕЙСТВИЯ УФ ИЗЛУЧЕНИЯ НА ПОВЕРХНОСТЬ ТОНКИХ ПЛЕНОК

Гавриш Е.О., Чуйко В.А.

Читать статью полностью

Аннотация

Исследуется возможность создания анизотропной текстуры на гладкой поверхности ориентирующих пленок на основе аморфного углерода (a-C:H) и оксидов индия и олова (ITO) с помощью УФ лазерного излучения. Приводятся результаты исследования с помощью оптической микроскопии поверхности образцов до и после обработки УФ лазерным излучением, а также ориентации жидких кристаллов (ЖК) на обработанной поверхности. Обсуждается влияние условий обработки на текстуру поверхности.

Ключевые слова:

аморфный углерод, оксид индия и олова, тонкие пленки, УФ излучение, жидкий кристалл

This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License