УДК535.3; 535.4; 535.012.21

ИССЛЕДОВАНИЕ ВОЗДЕЙСТВИЯ УФ ИЗЛУЧЕНИЯ НА ПОВЕРХНОСТЬ ТОНКИХ ПЛЕНОК

Гавриш Е.О., Чуйко В.А.


Читать статью полностью 

Аннотация

Исследуется возможность создания анизотропной текстуры на гладкой поверхности ориентирующих пленок на основе аморфного углерода (a-C:H) и оксидов индия и олова (ITO) с помощью УФ лазерного излучения. Приводятся результаты исследования с помощью оптической микроскопии поверхности образцов до и после обработки УФ лазерным излучением, а также ориентации жидких кристаллов (ЖК) на обработанной поверхности. Обсуждается влияние условий обработки на текстуру поверхности.


Ключевые слова:

аморфный углерод, оксид индия и олова, тонкие пленки, УФ излучение, жидкий кристалл



Creative Commons License

This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License
Информация 2001-2019 ©
Научно-технический вестник информационных технологий, механики и оптики.
Все права защищены.

Яндекс.Метрика