НИКИФОРОВ
Владимир Олегович
д.т.н., профессор
ПРИМЕНЕНИЕ ИМПУЛЬСНОГО ВОЛОКОННОГО ЛАЗЕРА ДЛЯ МИКРОСТРУКТУРИРОВАНИЯ СИСТЕМЫ SiO2/Si
Читать статью полностью
Аннотация
Исследовано влияние облучения системы SiO2/Si импульсным иттербиевым волоконным лазером ИЛИ-1-50 на морфологию и структурные свойства системы. Показано, что при лазерном облучении поверхности монокристаллической кремниевой пластины, покрытой тонким термически выращенным слоем SiO2, происходят существенные структурные изменения, связанные с локализацией на поверхности кремния полос линий скольжения и сеток линий скольжения, образующихся в результате пересечения этих полос. Рассмотрена фононная теория появления микроструктурного рельефа.
лазерное облучение, дислокации, линии скольжения, сетка линий скольжения, механические напряжения, пластическая деформация, рекристаллизация, нанокомпозит